РУС ENG
 
Interactive Corporation — японская торговая компания, основанная в 1993 году, поставляет высокотехнологичное научное и промышленное оборудование ведущих японских, европейских и американских производителей.
 
Interactive Corporation — авторизованный торговый агент компаний: JEOL Ltd., Oxford Instruments, Gatan, Ulvac-Riko, Nikon Instech, Yamazaki Mazak.
Авторизованный дилер JEOL Ltd в России и странах СНГ

Серия электроразрядных плазменных напылительных установок APD-S

Серия электроразрядных плазменных напылительных установок APD-S

Установки серии APD-S – вакуумные установки с коаксиальным источником дуговой плазмы, обепечивающие осаждение гладких ультратонких плёнок или наночастиц с прекрасной управляемостью. Основным узлом такой установки является плазменно-дуговая пушка, генерирующая поток ускоренной плазмы путём электрических разрядов, распыляющих материал проводящей мишени.

 

Основные характеристики процесса:

 

  • Простой контроль толщины осаждаемых плёнок в диапазоне толщин от 10 нм до микронов. Толщина плёнки прямо пропорциональна количеству разрядов. 
  • Возможность использования метода плазменно-дугового осаждения в условиях ультравысокого вакуума обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий и частиц. Осаждаемые частицы имеют предельную чистоту, определяемую только чистотой материала мишени.
  • Органические материалы, такие как пластик и полимерные плёнки, тоже могут быть использованы в качестве подложки, т.к. за счёт высокой скважности импульсов (200 мксек/сек) не происходит нагрева подложки.
  • Кинетическая энергия осаждаемых частиц велика. Тем самым обеспечивается высокая адгезия, плотность и равномерность покрытия. Высокая кинетическая энергия позволяет избежать образования конгломератов, типичных для электронно-лучевого осаждения.
  • Небольшой размер мишени: цилиндр 10 мм диаметром и 17 мм высотой.
  • Площадь осаждения 50 мм2 при равномерности по толщине не более 10%.

Опциональные возможности:

 

  • Устройство вращения подложки. Скорость вращения от 1 до 10 оборотов в минуту.
  • Устройство механического перемешивания сыпучих материалов для равномерного осаждения наночастиц на порошках. Скорость вращения от 1 до 10 оборотов в минуту.
  • Газовые инжекторы для ввода азота или кислорода в камеру осаждения для получения плёнок и наночастиц оксидов и нитридов.
  • Дополнительная плазменно-дуговая пушка.

 

 

Спецификация системы:

 

  • Размер камеры осаждения: 400 мм ширина, 400 мм глубина, 300 мм высота.
  • Высоковакуумная откачка: турбомолекулярная (450 литров/сек).
  • Система напуска газов: опционально. Для кислорода, азота, аргона и пр.
  • Размер подложки: 50 мм диаметром.
  • Столик для подложки: 50 мм диаметром.
  • Вращение столика: опционально. От 1 до 10 оборотов в минуту.
  • Устройство механического перемешивания сыпучих материалов для равномерного осаждения наночастиц на порошках: опционально. От 1 до 10 оборотов в минуту.
  • Система нагрева подложки: опционально. До 500° С.
  • Материал мишени: железо, платина и прочие проводящие материалы. Рекомендуемое сопротивление мишени не более 0,01 Ом*см.
  • Габариты мишени: цилиндр диаметром 10 мм и высотой 17 мм. В случае использования полой мишени: 10 мм внешний диаметр, 5,5 мм внутренний диаметр, 17 мм высота.
  • Время жизни мишени: 30 000 импульсов.
  • Частота разрядов: 1, 2, 3, 4, 5 разрядов в секунду.

Московское представительство компании Interactive Corporation
115191 Россия, Москва, ул. Большая Тульская, д.10, стр. 2, офис 222
тел/факс: +7 (495) 748 20 07, +7 (495) 737 51 68, e-mail: iac@microanalysis.ru