"...Базируясь на наилучшей в мире плазмохимической технологии осаждения алмазных пленок, плазмохимические реакторы серии АХ фирмы Seki Technotron используются как в производстве, так и в научных исследованиях. С учетом общей наработки данного оборудования свыше 1 млн. на более чем 200 установках, работающих в различных лабораториях мира, СВЧ плазменная технология фирмы Seki Technotron является привлекательным выбором для ученых, желающих сократить время на разработку процесса и обеспечить совместимость результатов исследований с учеными в других лабораториях и институтах.

Уникальный гибкий СВЧ-реактор фирмы Seki и запатентованная конструкция CВЧ-сопряжения дает возможность СВЧ-обработки при высоких давлениях (>10 Торр), при средних давлениях (100 мТорр с дополнительными магнитами), и при низких давлениях (<10 мТорр с дополнительным магнитом и проточной камерой).

Эти системы используются во всем мире для выращивания различных материалов на основе углерода (Алмазов, нанокристаллических алмазов и углеродных нанотрубок и т.п.) и неуглероденых материалов типа GaN, SiC, и т.п. с последними наработками по росту вискеров из оксида галлия и кремния. В частности, используя уникальные и ценные свойства алмаза, СВЧ-плазменные реакторы фирмы Seki Technotron для газофазного осаждения применяются для покрытий режущих инструментов, теплоотводов, устройств ПАВ (на поверхностных акустических волнах) и т.п. и для различных новых применений, основанных на использовании нанокристаллических алмазов.

На рис. 1 показана система для плазмохимического газофазного роста алмазных пленок фирмы Seki Technotron (Япония) c СВЧ-генератором мощностью 1,5 кВт. На данной системе, изменяя параметры газовой смеси и температуры подложки, можно выращивать не только алмазные и алмазоподобные пленки (как монокристаллические, так и поликристаллические), но и вертикально ориентированные углеродные нанотрубки (см. рис. 2), и другие наноматериалы (например, карбонитрид кремния, см. рис. 3) на подложках диаметром 50-100 мм. На рис. 4 показана система термического газофазного осаждения алмазных пленок с горячей нитью фирмы Seki-Technotron.

Кроме того, недавно была опубликована статья, в которой сообщалось о том, что на оборудовании фирмы Seki Technotron был выращен монокристаллический алмаз высотой 2,5 мм в течение 25 часов. Т.е. скорость роста алмаза на монокристаллической подложке достигала 0,1 мм/ч. Внешний вид данного алмаза показан на рис. 5 Столь большие скорости роста возможны при увеличении мощности плазменного СВЧ-разряда, и установки Seki-Technotron для промышленного применения имеют мощность СВЧ-генератора до 100 кВт Путем изменения рабочих условий процесса осаждения, можно получать как микрокристаллические (с размерами кристаллитов до 100 нм), так и нанокристаллические (с размерами кристаллитов от нескольких нм до нескольких десятков нм) алмазные пленки. Последние особенно требуются для оптических применений (в качестве ИК-окон и т.п.). Параметры кристалличности можно изменять, проводя осаждения при пониженном давлении водород-метановой смеси в камере роста (при этом снижается и скорость роста), либо заменяя водород в смеси аргоном..."

Взято из "Оборудование и технология изготовления алмазных и алмазоподобных пленок методом плазмохимического газофазного осаждения" С. А. Иванов, глава московского представительства компании «Интерактив Корпорэйшн», официального представителя фирмы Seki-Technotron, производителя систем выращивания алмазных пленок методом газофазного плазмохимического осаждения.