Вакуумная установка с коаксиальным источником дуговой плазмы обепечивает осаждение гладких ультратонких плёнок или наночастиц с прекрасной управляемостью. Основным узлом установки является плазменно-дуговая пушка, генерирующая поток ускоренной плазмы путём электрических разрядов, распыляющих материал проводящей мишени.

Основные характеристики процесса:

• Простой контроль толщины осаждаемых плёнок в диапазоне толщин от 10 нм до микронов. Толщина плёнки прямо пропорциональна количеству разрядов. 
• Возможность использования метода плазменно-дугового осаждения в условиях ультравысокого вакуума обеспечивает высокую чистоту осаждаемых покрытий и частиц. Осаждаемые частицы имеют предельную чистоту, определяемую только чистотой материала мишени.
• Органические материалы, такие как пластик и полимерные плёнки тоже могут быть использованы в качестве подложки, т.к. за счёт высокой скважности импульсов (200 мксек/сек) не происходит нагрева подложки.
• Кинетическая энергия осаждаемых частиц велика, тем самым обеспечивается высокая адгезия, плотность и равномерность покрытия. Высокая кинетическая энергия позволяет избежать образования конгломератов, типичных для электронно-лучевого осаждения.
• Небольшой размер мишени: цилиндр 10 мм диаметром и 17 мм высотой.
• Площадь осаждения 50 мм² при равномерности по толщине не более 10%

Опциональные возможности:

1. Устройство вращения подложки. Скорость вращения от 1 до 10 оборотов в минуту

2. Устройство механического перемешивания сыпучих материалов для равномерного осаждения наночастиц на порошках. Скорость вращения от 1 до 10 оборотов в минуту

3. Газовые инжекторы для ввода азота или кислорода в камеру осаждения для получения плёнок и наночастиц оксидов и нитридов

4. Дополнительная плазменно-дуговая пушка

Спецификация системы:

• Размер камеры осаждения: 400 мм ширина, 400 мм глубина и 300 мм высота
• Высоковакуумная откачка: турбомолекулярная (450 литров/сек)
• Система напуска газов: опционально. Для кислорода, азота, аргона и пр.
• Размер подложки: 50 мм диаметром
• Столик для подложки: 50 мм диаметром
• Вращение столика: опционально. От 1 до 10 оборотов в минуту
• Устройство механического перемешивания сыпучих материалов для равномерного осаждения наночастиц на порошках
• Система нагрева подложки: опционально. До 500⁰ С
• Материал мишени: железо, платина и прочие проводящие материалы. Рекомендуемое сопротивление мишени не более 0,01 Ом*см
• Габариты мишени: цилиндр диаметром 10 мм и высотой 17 мм. В случае использования полой мишени: 10 мм внешний диаметр, 5,5 мм внутренний диаметр, 17 мм высота.
• Время жизни мишени: 30,000 импульсов
• Частота разрядов: 1,2,3,4,5 разрядов в секунду